纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法,实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。它是通过将刻有目标图形的母版压印到相应的衬底(通常是一层很薄的聚合材料)上实现图形转移,以完成微纳米加工的光刻步骤。纳米压印技术是制作纳米结构的关键,具有广阔的应用前景。
利用芯明天P18.XY300二维扫描台,可带动镀膜镜片在0~300μm的平面内对读取的图像信息进行优化,同时控制激光器及扫描台,二者配合完成图像的纳米精度加工。
下图为通过芯明天运动控制软件操作二维压电扫描台,激光光刻的100μm×100μm图标。
P18.XY300压电扫描台
P18.XY300为二维直线扫描台。台体采用机构放大设计原理,内置高可靠性压电陶瓷,可以实现375μm的高速扫描,运动直线性好,配套芯明天大功率控制器响应时间可达5ms,通光孔径为Ø35mm,是精密加工、半导体制造、扫描显微等应用的不错选择。
特点
·位移可达375μm/轴
·承载达3kg
·通孔直径:Ø35mm
·闭环重复定位精度高
阶跃时间
单点定位应用,P18.XY300S带载100g负载阶跃时间60ms。
技术参数
型号 |
尾缀S-闭环尾缀K-开环 |
P18.XY300S P18.XY300K |
单位 |
运动自由度 |
X、Y |
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标称行程范围(0~120V) |
300或±150/轴 |
μm±20% |
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行程范围(0~150V) |
375或±187.5/轴 |
μm±20% |
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传感器类型 |
SGS/- |
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通孔尺寸 |
Ø35 |
mm |
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闭/开环分辨率 |
10/5 |
nm |
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闭环线性度 |
0.2/- |
%F.S |
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闭环重复定位精度 |
0.15/- |
%F.S |
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俯仰/偏航/滚动 |
<15 |
μrad |
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推/拉力 |
150/150 |
N |
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运动方向刚度 |
X0.5/Y0.5 |
N/μm±20% |
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空载谐振频率 |
X250/Y500 |
Hz±20% |
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闭/开环空载阶跃时间 |
50/10 |
ms±20% |
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闭环空载 工作频率 |
10%行程 |
40 |
Hz±20% |
100%行程 |
10 |
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承载能力 |
3 |
kg |
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静电容量 |
21/轴 |
μF±20% |
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材质 |
铝 |
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重量 |
380 |
g±5% |