压电纳米定位系统如何重塑纳米压印精度边界
更新时间：2025-06-19 10:59:19点击次数：1511次
在半导体芯片制造、光学元件加工以及生物医疗器件研发等领域，微纳结构的加工精度正朝着原子级精度不断迈进。传统光刻技术由于受到波长衍射极限的制约，当加工尺度进入10nm以下时，不仅面临着成本急剧上升的问题，还存在工艺复杂度大幅增加的瓶颈。而纳米压印技术凭借其在高分辨率加工、低成本生产以及高量产效率等方面的显著优势，正逐步成为下一代微纳制造领域的核心技术之一。
（注：图片来源于网络）
一、
纳米压印：芯片制造领域的“活字印刷术”
1、诞生背景：突破光刻“天花板”的必然选择
2、技术原理：纳米级的“盖章艺术”
二、
关键流程拆解：逐层的“精度博弈”
1.模板制备—纳米级对准
2.压印成型—压力均匀性控制
3.脱模—应力控制
三、
当压电技术切入纳米压印的核心痛点
芯明天压电纳米定位系统
纳米压印的“精准之手”
（压电纳米定位台运动效果举例）
S52系列大负载压电偏摆台
S52.ZT2S压电偏摆台，可产生θx、θy两轴偏转及Z向直线运动。它的承载能力可达5kg，闭环重复定位精度可达0.006%F.S.，适用于各种高精度应用领域。同时中心具有55×55mm^2的通孔，适用于透射光应用。
产品特点
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H30系列压电偏摆台
产品特点
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